技術名稱：鋁金屬蝕刻、微影及清洗製程技術
技術內容：
一種鋁金屬薄膜製備、鋁導線蝕刻製程及蝕刻殘餘物清潔能力。
廠商資格：
1.產業類別：學術研究機構
2.應具備之專門技術：超導量子位元晶片之實作與量測經驗
3.應有研究或技術人員：元件微影蝕刻製程技術人員
4.無片面毀約不良紀錄
2.應具備之專門技術：超導量子位元晶片之實作與量測經驗
3.應有研究或技術人員：元件微影蝕刻製程技術人員
4.無片面毀約不良紀錄
申請辦法：
有意願之廠商需填妥本院「廠商開發計畫書」與「研發成果授權申請表」。
連絡窗口：
羅先生 03-5773693 ext.7635
E-Mail: cglo@narlabs.org.tw
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