本中心自動化光阻塗佈及顯影系統 (CF-L09) 汰舊換新替代方案通知
本中心自動化光阻塗佈及顯影系統 (CF-L09) 汰舊換新替代方案通知
各位使用者您好：
為提升製程能力，本中心將進行自動化光阻塗佈及顯影系統 (CF-L09) 設備汰舊換新作業，由原 Mark 8 機台更新為 ACT8Z (支援 6吋/8吋/破片)。在施工期間，自動化產線將暫停服務，請各位使用者依照下列替代方案進行製程作業。
一、 施工期間替代製程方案
受施工影響，6吋晶圓及破片之自動化產線將暫停，塗佈與顯影需轉向其他機台或改為手動執行：
(1) 破片製程 (Pieces)：
二、 設備位置與管理資訊
【重要提醒】
* 在化學實驗室進行顯影後，請務必將廢液倒入專用廢液桶回收。
* 詳細說明請附件，如有任何疑問，請聯繫各機台負責人或黃才銘工程師 (分機 7567, tmhuang@niar.org.tw)
各位使用者您好：
為提升製程能力，本中心將進行自動化光阻塗佈及顯影系統 (CF-L09) 設備汰舊換新作業，由原 Mark 8 機台更新為 ACT8Z (支援 6吋/8吋/破片)。在施工期間，自動化產線將暫停服務，請各位使用者依照下列替代方案進行製程作業。
一、 施工期間替代製程方案
受施工影響，6吋晶圓及破片之自動化產線將暫停，塗佈與顯影需轉向其他機台或改為手動執行：
(1) 破片製程 (Pieces)：
- 2.5cm 破片： 轉移至 ACT8 (CF-L17) 系統進行。相關製程程式將公告於機台端。
- 1.2cm 破片： 目前轉移測試評估中，完成後將另行公告於機台端。
- 其他尺寸： 請至 L25 進行手動阻劑塗佈。
- 塗佈作業： 須使用 Off-line coater (ZEP Coater 或 L25) 進行手動塗佈。
- 顯影作業： 須於化學實驗室進行手動顯影。相關製程條件與程式將公告於機台端。
| 設備名稱 | 放置位置 | 管理者 (分機) | 備註 |
|---|---|---|---|
| ZEP Coater | 100級潔淨室 | 鄧日豪 (7598) | 下方備有光阻，程式於機台前 |
| L25 Coater | 10K級潔淨室 | 彭馨誼 (7714) | 下方備有光阻，條件於機台旁 |
| 化學實驗室 | 彭馨誼 (7714) | 提供加熱板、6吋顯影載具及培養皿 |
* 在化學實驗室進行顯影後，請務必將廢液倒入專用廢液桶回收。
* 詳細說明請附件，如有任何疑問，請聯繫各機台負責人或黃才銘工程師 (分機 7567, tmhuang@niar.org.tw)