新竹儀器設備列表
注意事項：
1.自行操作預約/委託服務申請：請至 製程與量測分析服務系統 / MES系統 申請
2.設備考核表：請至 儀器設備訓練申請
3.設備開放等級：說明
1.自行操作預約/委託服務申請：請至 製程與量測分析服務系統 / MES系統 申請
2.設備考核表：請至 儀器設備訓練申請
3.設備開放等級：說明
微影光罩設備
|
設備 編號 |
設備名稱 | 聯絡窗口 | 分機 |
設備 簡介 |
技術 資料 |
標準 製程 |
注意 事項 |
設備 作業標準 |
設備 考核說明 |
開放 等級 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| C05 | Wet Bench (class 100)-清洗蝕刻工作站 |
負責-彭馨誼 代理-劉信良 |
7714 7699 |
C05-A | C05-B | C05-C | C05-D | C05-E | C05-F | B1 |
| C06 | Wet Bench (class 1000 back end )-後段清洗蝕刻工作站 |
負責-劉信良 代理-彭馨誼 |
7699 7714 |
C06-A | C06-B | C06-C | C06-D | C06-E | C06-F | B1 |
| C08 | 8”CMP-8英吋化學機械研磨系統 |
負責-呂如梅 代理-劉信良 |
7613 7699 |
C08-A | C08-B | C08-C | C08-D | C08-E | -- | B4 |
| C09 | 8吋後段化學清洗蝕刻工作站 |
負責-劉信良 代理-彭馨誼 |
7699 7714 |
C09-A | C09-B | C09-C | C09-D | C09-E | C09-F | B3 |
| C10 | 8吋前段化學清洗蝕刻工作站 |
負責-彭馨誼 代理-劉信良 |
7714 7699 |
C10-A | C10-B | C10-C | C10-D | C10-E | C10-F | B3 |
| C11 | 前段化學機械研磨系統 |
負責-劉瑞敏
代理-劉信良
|
7716
7699
|
C11-A | -- | -- | -- | C11-E | -- | B4 |
| E04 | Ozone asher-乾式光阻去除機 | 負責-劉信良 | 7699 | E04-A | E04-B | E04-C | E04-D | E04-E | E04-F | B1 |
| L02A | 光罩製作服務 | 負責-洪鶯玲 | 7746 | -- | -- | -- | L2A-D | -- | -- | B4 |
| L02W | Leica e-beam-電子束直寫系統 |
負責-劉正財 代理-蔣曉白 |
7649 7579 |
L2W-A | L2W-B | L2W-C | L2W-D | L2W-E | L2W-F | B3 |
| L05 | I-line stepper-I-line 光學步進機 |
負責-許進財 代理-王忻愷 |
7648 7723 |
L05-A |
L05-B L05C-B |
L05-C L05C-C |
L05-D L05C-D |
L05-E | L05-F | B2 |
| L06 | In-line SEM-線上電子顯微鏡 | 負責-王忻愷 | 7723 | L06-A | L06-B | -- | L06-D | L06-E | L06-F | B2 |
| L09 | Track-自動化光阻塗佈及顯影系統 |
負責-洪鶯玲 代理-洪朝欣 |
7746 7573 |
L09-A | L09-B | L09-C | L09-D | L09-E | L09-F | B1 |
| L12 | ELS7500電子束直寫系統 | 負責-劉正財 | 7649 | L12-A | L12-B | -- | L12-D | L12-E | L12-F | B2 |
| L13 | FIB-電子束離子束雙束系統 |
負責-李美儀 代理-陳虹君 |
7652 7575 |
L13-A | L13-B | -- | L13-D | L13-E | L13-F | B4 |
| L16 | S9260A 線上型電子顯微鏡 |
負責-王忻愷 代理-劉正財 |
7723 7649 |
L16-A | L16-B | -- | L16-D | L16-E | L16-F | B3 |
| L17 | 阻劑塗佈及顯影系統ACT8 |
負責-黃才銘 代理-洪朝欣 |
7567 7573 |
L17-A | L17-B | L17-C | L17-D | L17-E | L17-F | B3 |
| L18 | 聚焦電子束系統 |
負責-陳虹君 代理-李美儀 |
7575 7652 |
L18-A | L18-B | -- | L18-D | L18-E | L18-F | B4 |
| L19 | 可變形束電子束曝光機 |
負責-蔣曉白 代理-鄭旭君 |
7579 7644 |
L19-A | L19-B | L19-C | L19-D | L19-E | L19-F | B4 |
| L20 | 晶粒等級圖案定義對準系統 |
負責-洪朝欣 代理-鄭旭君 |
7573 7644 |
L20-A | L20-B | L20-C | L20-D | L20-E | L20-F | B2 |
| L21 | 光罩光阻處理系統 |
負責-洪朝欣 代理-洪鶯玲 |
7573
7746
|
L21-A | -- | L21-C | -- | L21-E | -- | B4 |
| L22 | 高速量產型光學曝光系統(248 Scanner) | 負責-黃才銘 | 7567 | L22-A | L22-B | L22-C | L22-D | L22-E | B4 | |
| M09 | n&k-薄膜測厚儀 |
負責-劉瑞敏 代理-呂如梅 |
7716 7613 |
M09-A | M09-B | M09-C | M09-D | -- | M09-F | B1 |
| M13 | Stress Measurement System-應力量測儀 |
負責-呂如梅 代理-李美儀 |
7613 7652 |
M13-A | M13-B | M13-C | M13-D | M13-E | M13-F | B2 |
| M18 | UV-vis-紫外可見光光譜儀 |
負責-彭馨誼 代理-劉信良 |
7714 7699 |
M18-A | M18-B | M18-C | M18-D | M18-E | M18-F | B1 |
| M19 | Metal 4 point probe-金屬膜四點探針量測儀 |
負責-劉信良 代理-蔣曉白 |
7699 7579 |
M19-A | M19-B | M19-C | M19-D | M19-E | M19-F | B2 |
| M20 | Adhension test-薄膜附著力測試系統 |
負責-劉信良 代理-彭馨誼 |
7699 7714 |
M20-A | M20-B | M20-C | M20-D | M20-E | M20-F | B1 |
| M23 | NK1500-薄膜厚度分析儀 |
負責-劉瑞敏 代理-呂如梅 |
7716 7613 |
M23-A | -- | M23-C | M23-D | M23-E | M23-F | B2 |
| M24 | Topcon Surfscan-表面污染分析儀 |
負責-彭馨誼 代理-劉信良 |
7714 7699 |
M24-A | M24-B | M24-C | M24-D | M24-E | M24-F | B2 |
| M25 | Ellipsometer M2000橢圓測厚儀 |
負責-劉瑞敏 代理-呂如梅 |
7716 7613 |
M25-A | M2-5B | -- | M25-D | M25-E | M25-F | B2 |
| M28 | Wyko 白光干涉儀 | 負責-呂如梅 | 7613 | M28-A | -- | M28-C | M28-D | M28-E | M28-F | B3 |
| R514 | Chem lab-化學實驗室 |
負責-彭馨誼 代理-劉信良 |
7714 7699 |
-- | -- | -- | R514-D | -- | R514-F | B1 |
| T12 | Spin coater low-k 材料旋塗機 | 負責-彭馨誼 | 7714 | T12-A | T12-B | T12-C | T12-D | T12-E | -- | B1 |
蝕刻薄膜設備
|
設備 編號 |
設備名稱 | 聯絡窗口 | 分機 |
設備 簡介 |
技術 資料 |
標準 製程 |
注意 事項 |
設備 作業標準 |
設備 考核說明 |
開放 等級 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| E01 | TCP poly etcher-多晶矽乾式蝕刻機 | 朱柏豪 | 7554 | E01-A | E01-B | E01-C | E01-D | E01-E | E01-F | B2 |
| E07 | Mattson ASPEN Asher-乾式光阻去除機 | 邱文政 | 7569 | E07-A | E07-B | E07-C | E07-D | E07-E | E07-F | B1 |
| E08 | TCP9600 CF-E08 金屬乾式蝕刻機 | 朱柏豪 | 7554 | E08-A | E08-B | E08-C | E08-D | E08-E | E08-F | B2 |
| E09 | ICP Etcher-感應耦合式電漿蝕刻系統 | 許倬綸 | 7651 | E09-A | E09-B | E09-C | E09-D | E09-E | E09-F | B2 |
| E10 | 8吋前段多晶矽與介電層蝕刻機 | 薛富國 | 7557 | E10-A | E10-B | E10-C | E10-D | E10-E | E10-F | B2 |
| E11 | 8吋後段金屬與金屬層間引洞蝕刻機 | 許倬綸 | 7651 | E11-A | E11-B | E11-C | E11-D | E11-E | E11-F | B2 |
| E12 | 多功能後段蝕刻機 | 朱柏豪 | 7554 | E12-A | E12-B | E12-C | E12-D | E12-E | E12-F | -- |
| E13 | 12吋智慧終端關鍵技術多腔體多功能蝕刻設備 | 許倬綸 | 7651 | E13-A | E13-B | E13-C | E13-D | -- | -- | B4 |
| E14 | 8 吋全自動表面輪廓儀 | 朱柏豪 | 7554 | E14-A | E14-B | E14-C | E14-D | E14-E | E14-F | B2 |
| E15 |
智慧終端離子性蝕刻機
|
許倬綸 | 7651 | E15-A | E15-B | E15-C | E15-D | B4 | ||
| E16 | 低損傷磊晶蝕刻機 | 許文達 | 7537 | E16-A | E16-B | E16-C | E16-D | B4 | ||
| M11 | Laser Marker-雷射刻號機 | 黃鉦致 | 7582 | M11-A | M11-B | M11-C | M11-D | M11-E | M11-F | B4 |
| M26 | 全反射式X光螢光光譜儀 | 劉思菁 | 7661 | M26-A | M26-B | M26-C | M26-D | -- | -- | B4 |
| RDT007 | 電漿輔助式原子層沉積系統 | 邱文政 | 7569 | RDT007-A | -- | RDT007-C | RDT007-D | RDT007-E | RDT007-F | B4 |
| S06 | Implantation E500HP-中電流離子佈植機 | 巫振榮 | 7698 | S06-A | S06-B | S06-C | S06-D | S06-E | S06-F | B4 |
| S08 | GaN RTA-氮化鎵快速熱退火處理設備 | 廖苑辰 | 7698 | S08-A | S08-B | S08-C | S08-D | S08-E | S08-F | B2 |
| S09 | 超低能量摻雜與改質機 | 廖苑辰 | 7583 | S09-A | S09-B | S09-C | S09-D | B4 | ||
| T03 | Horizontal Furnace - 水平爐管 | 劉思菁 | 7661 | T03-A | T03-B | T03-C | T03-D | T03-E | T03-F | B2 |
| T13 | Vertical furnace-垂直爐管 | 巫振榮 | 7698 | T13-A | T13-B | T13-C | T13-D | T13-E | T13-F | B3 |
| T17 | Backend vacuum annealing furnace-後段真空退火爐管 | 巫振榮 | 7698 | T17-A | T17-B | T17-C | T17-D | T17-E | T17-F | B1 |
| T19 | Oxford PECVD-電漿輔助化學氣相沈積系統 | 周科吟 | 7539 | T19-A | T19-B | T19-C | T19-D | T19-E | T19-F | B1 |
| T21 | E-gun-電子槍金屬蒸鍍系統 | 許文達 | 7537 | T21-A | T21-B | T21-C | T21-D | T21-E | T21-F | B2 |
| T23 | FSE Cluster PVD-多層金屬濺鍍系統 | 楊雲凱 | 7763 | T23-A | T23-B | T23-C | T23-D | T23-E | -- | B4 |
| T25 | WCVD 鎢金屬化學氣相沉積系統 | 周科吟 | 7539 | T25-A | T25-B | T25-C | T25-D | T25-E | T25-F | B3 |
| T26 | 後段化學氣相沉積系統 | 朱柏豪 | 7554 | T26-A | T26-B | T26-C | T26-D | T26-E | T26-F | B3 |
| T28 | 8吋高密度化學氣相沉積系統 | 周科吟 | 7539 | T28-A | T28-B | T28-C | T28-D | T28-E | T28-F | B3 |
| T29 | 8吋金屬物理氣相沉積系統 (8吋PVD) | 楊雲凱 | 7763 | T29-A | T29-B | T29-C | T29-D | T29-E | T29-F | B3 |
| T31 | 超高真空金屬與金屬氧化物奈米級薄膜濺鍍系統 | 楊雲凱 | 7763 | T31-A | T31-B | T31-C | T31-D | T31-E | T31-F | B4 |
| T32 |
高精準性元素控制薄膜沈積系
統
|
邱文政 | 7569 | T32-A | T32-B | T32-C | T32-D | B4 | ||
| T33 | 高功率異質材料磊晶系統 | 許隆興 | 7587 | T33-A | T33-B | T33-C | T33-D | B4 |
元件技術設備
|
設備 編號 |
設備名稱 | 聯絡窗口 | 分機 |
設備 簡介 |
技術 資料 |
標準 製程 |
注意 事項 |
設備 作業標準 |
設備 考核說明 |
開放 等級 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| CF-S07 | 雷射製程系統 | 陳士偉 | 7681 | S07-A | S07-B | S07-C | S07-D | -- | -- | B4 |
| CF-T24 | 低溫碳奈米管化學氣相沈積系統 | 陳紘珉 | 7503 | T24-A | T24-B | T24-C | -- | -- | -- | B1 |
| RDT001 | 原子層沉積系統 (ALD) | 侯福居 | 7636 | RDT001-A | RDT001-B | RDT001-C | RDT001-D | -- | -- | B4 |
| RDT003 | 低溫微波加熱系統 | 宋柏融 | 7672 | RDT003-A | RDT003-B | RDT003-C | RDT003-D | -- | -- | B4 |
| RDT004 | 快速升溫退火爐 | 林念芝 | 7709 | RDT004-A | -- | RDT004-C | RDT004-D | RDT004-E | -- | B2 |
| RDT005 | 四族磊晶機台 | 羅廣禮 | 7660 | RDT005-A | RDT005-B | RDT005-C | RDT005-D | RDT005-E | -- | B4 |
| RDT009 | 前瞻異質材料金屬有機化學氣相沉積系統 (III-V MOCVD) | 陳仕鴻 | 7655 | RDT009-A | RDT009-B | RDT009-C | RDT009-D | -- | -- | B4 |