本中心CF-L28可變形束電子束光罩製作曝光機年度保養停機公告
主旨：本院台灣半導體研究中心CF-L28可變形束電子束光罩製作曝光機年度保養停機公告
公告事項：
一、停機設備：CF-L28可變形束電子束光罩製作曝光機 (Variable Shaped Beam Mask Writer)。
二、停機原由：例行預防性保養及消耗性零件更換。
三、停機時程：自115年8月3日至8月14日止。
四、聯絡窗口：分機7647，陳先生。
五、若有任何異動，如機台因故須提前保養，將於MES系統狀態更新，不再另行公告。
公告事項：
一、停機設備：CF-L28可變形束電子束光罩製作曝光機 (Variable Shaped Beam Mask Writer)。
二、停機原由：例行預防性保養及消耗性零件更換。
三、停機時程：自115年8月3日至8月14日止。
四、聯絡窗口：分機7647，陳先生。
五、若有任何異動，如機台因故須提前保養，將於MES系統狀態更新，不再另行公告。