本中心 FSE Cluster PVD-多層金屬濺鍍系統暫停使用公告
主旨：本院台灣半導體研究中心(以下簡稱本中心) FSE Cluster PVD-多層金屬濺鍍系統暫停使用公告
公告事項：
一、本中心FSE Cluster PVD-多層金屬濺鍍系統，因使設備進行改善工程，目前已委外請廠商進行檢測與改善施工。
二、故115年9月1日至9月4日暫停相關製程服務，若有提前或延後時程，將公告於本中心網頁機台狀況。
三、原委託代工服務將暫時轉移至CT-T29 8吋金屬物理氣相沉積系統 (8吋PVD)，使用者如果有任何問題，可洽機台負責人工程師王興祥 分機7549，進行後續製程安排。
公告事項：
一、本中心FSE Cluster PVD-多層金屬濺鍍系統，因使設備進行改善工程，目前已委外請廠商進行檢測與改善施工。
二、故115年9月1日至9月4日暫停相關製程服務，若有提前或延後時程，將公告於本中心網頁機台狀況。
三、原委託代工服務將暫時轉移至CT-T29 8吋金屬物理氣相沉積系統 (8吋PVD)，使用者如果有任何問題，可洽機台負責人工程師王興祥 分機7549，進行後續製程安排。